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PVD的技術(shù)特點(diǎn) pvd技術(shù)的應(yīng)用領(lǐng)域及發(fā)展現(xiàn)狀

更新時(shí)間:2023-07-11 02:49:38作者:佚名

PVD的技術(shù)特點(diǎn) pvd技術(shù)的應(yīng)用領(lǐng)域及發(fā)展現(xiàn)狀

PVD的技術(shù)特點(diǎn)如下:

PVD(物理氣相沉積) 技術(shù),為真空涂層開(kāi)創(chuàng)了一個(gè)充滿燦爛前景的新天地,之后在短短的二、三十年間PVD涂層技術(shù)得到迅猛發(fā)展,究其原因,是因?yàn)槠湓谡婵彰芊獾那惑w內(nèi)成膜,幾乎無(wú)任何環(huán)境污染問(wèn)題,有利于環(huán)保;因?yàn)槠淠艿玫焦饬?、華貴的表面,在顏色上,成熟的有七彩色、銀色、透明色、金黃色、黑色、灰黑色、玫瑰金色、古銅色、藍(lán)色等各種顏色,可謂五彩繽紛,能夠滿足裝飾性的各種需要;又由于 PVD 技術(shù),可以輕松得到其他方法難以獲得的高硬度、高耐磨性的陶瓷涂層、復(fù)合涂層,應(yīng)用在工裝、模具上面,可以使壽命成倍提高,較好地實(shí)現(xiàn)了低成本、高收益的效果;此外, PVD 涂層技術(shù)具有低溫、高能兩個(gè)特點(diǎn),幾乎可以在任何基材上成膜,因此,應(yīng)用范圍十分廣闊,其發(fā)展神速也就不足為奇。真空涂層技術(shù)發(fā)展到了今天還出現(xiàn)了PCVD(物理化學(xué)氣相沉積)、MT-CVD(中溫化學(xué)氣相沉積)等新技術(shù),各種涂層設(shè)備、各種涂層工藝層出不窮,如今在這一領(lǐng)域中,已呈現(xiàn)出百花齊放,百家爭(zhēng)鳴的喜人景象。

本文標(biāo)簽: 技術(shù)  涂層  真空  新天地  是因?yàn)?/a>  

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