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ps處理過爆的高光的方法是：

1、先分析下原圖，那部分有點曝光過渡。

2、把背景圖層復(fù)制一層，選擇菜單：選擇色彩平衡，設(shè)置好容差和范圍，然后用吸管在圖像上高光過亮的地方點擊，選出過曝的選區(qū)。

3、把圖層蒙版加上，把圖層混合模式改為“正片疊底”。由于“正片疊底”會使圖像變暗，但由于蒙版的保護，所以它只會使我們選取的區(qū)域變暗，而不會影響其它地方。為了使明暗的地方平常過渡，再執(zhí)行：濾鏡、模糊、高斯模糊，數(shù)值自定，然后再適當降低該層的不透明度，過曝的問題得到一定程度改善。

4、如果覺得還有必要繼續(xù)降低過曝，再將剛才處理過的圖層復(fù)制一個副本，高光部位進一步變暗。

5、鼻梁、左臉和眉毛部仍有部分不協(xié)調(diào)的地方。新建一空白層，我們用仿制圖章工具來處理這些地方。因為“正片疊底”能降低圖像亮度，所以把仿制圖章的屬性頁設(shè)為“正片疊底”，并降低其不透明度，數(shù)值為“對所有圖層取樣”，按住Alt鍵在較暗的皮膚上取樣，在高光處涂抹。

6、為了使下面的皮膚紋理和亮光透點上來，適當降低用仿制圖章處理過的圖層不透明度，使圖像不至露出人為的痕跡。

7、為了使處理的地方更加平常過度，按住Shift鍵，同時選中上面三個層，并把這三個層建成一個組，取名叫處理高光組。